フォトマスクジャパン 2027
Photomask Japan 2027は4月7日(水)から4月9日(金)まで開催されたフォトマスクとNGLマスク技術に関する第33回シンポジウムです.
シンポジウムは、BACUSとEMLCの共催であるPhotomask JapanとSPIEが主催し、SEMIジャパンとの協力のもと技術展を開催しています。 公用語は英語です。 プログラムは、開発のための材料をカバーします。, エッチングとクリーニング; マルチビームEBライターを含むフォトマスクの書き込みツールと技術; 計量のためのツールと技術, 検査と修理; EUVLのための技術とインフラ, NILとFPDマスク; EDA, MDP, カリキュラムILとDTCO; PSMなどのRETとフォトマスク, OPC, SMO、および複数のパターンのプリント基板技術; 半導体および電子顕微鏡用の高度な技術; 半導体および電子顕微鏡技術; ESA および電子顕微鏡技術; 製造のための高度な技術; 半導体および電子顕微鏡技術; 半導体技術; 半導体および電子顕微鏡技術; 半導体および電子技術; 半導体技術; 半導体および電子技術; 半導体製造技術; 半導体および電子顕微鏡; 半導体技術; 半導体製造技術; 半導体および電子顕微鏡; 半導体/電子顕微鏡; 半導体/電子顕微鏡; 半導体/電子顕微鏡; 半導体/電子顕微鏡/電子顕微鏡/電子顕微鏡/電子顕微鏡/電子顕微鏡/電子顕微鏡/電子顕微鏡/電子顕微鏡/電子顕微鏡/電子顕微鏡/電子顕微鏡/電子顕微鏡/電子顕微鏡/電子顕微鏡/電子顕微鏡/電子顕微鏡/電子顕微鏡/電子顕微鏡/ 専任セッションスコープは、大学の学生や大学院の研究者のためのアカデミーでフォトマスクとリソグラフィ技術をカバーしています, ベストアカデミックポスター賞とHOYAアカデミック賞.
抄録は、PMJのウェブサイトを通じてPDF形式で電子的に提出されます。提出期限は2026年11月30日であり、原稿期限は2027年3月31日です。 受諾通知は、1月2027日(火)よりメールが届きます。 Photomask Japan事務局は、富山930-0004、富山930-0004、([email protected])、SPIE Proceedings coordinationが[email protected]によって運営されています.